品牌ACM RESEARCH | 有效期至长期有效 | 最后更新2023-08-15 23:42 |
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ACM RESEARCH 单片清洗设备系列
主要优势
清洗药液独立控制,无交叉污染
喷嘴精确控制系统
准确的化学药液供给
较低的使用成本
优质清洗效果
可应用不同种晶圆清洗工艺
高产出
对小颗粒的管控和金属管控能力
特性和规格
多可配置8套清洗腔体
多可配置5种药液进行清洗工艺,RCA药液,氢氟酸,臭氧水,去离子水等。
可对基板片,外延片的清洗工艺