面向单靶磁控管和双靶磁控管溅射的创新功率控制
采用久经现场验证的双 直流脉冲技术,让工艺性能更上 层楼。
进的波形控制可实现工艺微调
同时适合双脉冲和单脉冲磁控溅射应用
设计紧凑,包含直流和脉冲
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胡经理 女士
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ADVANCED ENERGY 等离子发生器Ascent AP系列
详细信息 Ascent AP 系列
面向单靶磁控管和双靶磁控管溅射的创新功率控制
采用久经现场验证的双 直流脉冲技术,让工艺性能更上 层楼。
进的波形控制可实现工艺微调
同时适合双脉冲和单脉冲磁控溅射应用
设计紧凑,包含直流和脉冲 |