ACM RESEARCH 单片清洗设备系列 主要优势清洗药液独立控制，无交叉污染喷嘴精确控制系统准确的化学药液供给较低的使用成本优质清洗效果可应用不同种晶圆清洗工艺高产出对小颗粒的管控和金属管控能力特性和规格多可配置8套清洗腔体多可配置5种药液进行清洗工艺，RCA药液，氢氟酸，臭氧水，去离子水等。可对基板片，外延片的清洗工艺
2024-12-09
ACM RESEARCH 槽式湿法清洗设备系列 主要优势 槽式SPM清洗模块与单片清洗腔体相结合来进行去胶工艺。SPM的寿命可通过使用时间和工艺片数来控制。现阶段，SPM的使用量跟单片高温清洗设备相比能减少80%以上。 单片晶圆腔体内可配置通用药液比如DHF,SC1,SC2和O3。可按要求配置喷嘴和/或者兆声波清洗来提高去除颗粒污染物的效率。 工艺的顺序可灵活设置，该设备可按照不同的产品需求进行槽式清洗工艺或者只进行单片清洗工艺。
2024-12-09
ACM RESEARCH 清洗设备TAHOE系列 主要优势 槽式SPM清洗模块与单片清洗腔体相结合来进行去胶工艺。SPM的寿命可通过使用时间和工艺片数来控制。现阶段，SPM的使用量跟单片高温清洗设备相比能减少80%以上。 单片晶圆腔体内可配置通用药液比如DHF,SC1,SC2和O3。可按要求配置喷嘴和/或者兆声波清洗来提高去除颗粒污染物的效率。 工艺的顺序可灵活设置，该设备可按照不同的产品需求进行槽式清洗工艺或者只进行单片清洗工艺。
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